Eberhard Spenke
Eberhard Spenke (* 5. Dezember 1905 in Bautzen; † 24. November 1992 in Erlangen) war ein deutscher Physiker.
Leben
Eberhard Spenke studierte an den Universitäten Bonn, Göttingen und Königsberg Physik, die Promotion erfolgte im Jahr 1928. Eberhard Spenke war im Anschluss an seine Studienzeit von 1929 bis 1946 als wissenschaftlicher Mitarbeiter im Berliner Zentrallaboratorium der Siemens & Halske AG tätig. Zusammen mit Walter Schottky (1886–1976) untersuchte er dort die Eigenschaften und Leitungsvorgänge von Halbleitermaterialien. In den 1930er und 1940er Jahren war Spenke auch an der Entwicklung von Heißleitern beteiligt (siehe seine Patente u. a. mit W. Schottky<ref>{{#if:{{#ifexpr:{{#if:AT|0|1}} or {{#if:145751|0|1}}|1}}|Fehlender Parameter {{#if:AT||„Land“{{#if:145751|| und }}}}{{#if:145751||„V-Nr“}}|}}{{#if: {{#invoke:Expr|TemplateBooland}}|{{#ifeq:|Patentanmeldung|Patentanmeldung|{{#ifeq:|Gebrauchsmuster|Gebrauchsmuster|Patent}}}} {{#if:{{#invoke:TemplUtl|faculty|}}|AT145751|{{#switch: {{{DB}}} | DEPATIS =AT145751 | WIPO = AT145751 | Google = AT145751 | #default =AT145751 }}}}{{#if:Anordnung zur Verstärkung oder Stabilisierung von Strömen mittels negativer Widerstände1936-05-25|:|.}}{{#if:Anordnung zur Verstärkung oder Stabilisierung von Strömen mittels negativer Widerstände| Anordnung zur Verstärkung oder Stabilisierung von Strömen mittels negativer Widerstände.}}{{#if:1936-05-25| Angemeldet am {{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:|{{#if:1936-05-25| veröffentlicht am | Veröffentlicht am }}{{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Anmelder: {{{Anmelder}}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Erfinder: {{{Erfinder}}}}}{{#if:| ({{{Kommentar}}})}}{{#if:1936-05-25|.}}}}{{#invoke:TemplatePar|match |template= Vorlage:Patent |cat= {{#ifeq: 0 | 0 | Wikipedia:Vorlagenfehler/Vorlage:Patent}} |format= |preview=@@@ |1=Land= ABC+ |2=V-Nr= /^[0-9A-Z]+$/ |3=Titel= * |4=Erfinder= * |5=Anmelder= * |6=A-Datum= * |7=V-Datum= * |8=Typ= ASCII |9=Code= ASCII |10=Kommentar= * |11=KeinLink= ASCII |12=DB=ASCII }}</ref><ref>{{#if:{{#ifexpr:{{#if:DE|0|1}} or {{#if:738988|0|1}}|1}}|Fehlender Parameter {{#if:DE||„Land“{{#if:738988|| und }}}}{{#if:738988||„V-Nr“}}|}}{{#if: {{#invoke:Expr|TemplateBooland}}|{{#ifeq:|Patentanmeldung|Patentanmeldung|{{#ifeq:|Gebrauchsmuster|Gebrauchsmuster|Patent}}}} {{#if:{{#invoke:TemplUtl|faculty|}}|DE738988|{{#switch: {{{DB}}} | DEPATIS =DE738988 | WIPO = DE738988 | Google = DE738988 | #default =DE738988 }}}}{{#if:Verfahren zur Erzielung eines großen Regelbereiches von Heißleitern1934-03-29|:|.}}{{#if:Verfahren zur Erzielung eines großen Regelbereiches von Heißleitern| Verfahren zur Erzielung eines großen Regelbereiches von Heißleitern.}}{{#if:1934-03-29| Angemeldet am {{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:|{{#if:1934-03-29| veröffentlicht am | Veröffentlicht am }}{{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Anmelder: {{{Anmelder}}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Erfinder: {{{Erfinder}}}}}{{#if:| ({{{Kommentar}}})}}{{#if:1934-03-29|.}}}}{{#invoke:TemplatePar|match |template= Vorlage:Patent |cat= {{#ifeq: 0 | 0 | Wikipedia:Vorlagenfehler/Vorlage:Patent}} |format= |preview=@@@ |1=Land= ABC+ |2=V-Nr= /^[0-9A-Z]+$/ |3=Titel= * |4=Erfinder= * |5=Anmelder= * |6=A-Datum= * |7=V-Datum= * |8=Typ= ASCII |9=Code= ASCII |10=Kommentar= * |11=KeinLink= ASCII |12=DB=ASCII }}</ref>). 1944 wurde Spenke der Arbeitsgruppe Akustik unter Friedrich Spandöck zugeordnet.
Nach Kriegsende baute Eberhard Spenke im fränkischen Pretzfeld das Halbleiterforschungslaboratorium der Siemens & Halske AG auf. Im Jahr 1954 gelang ihm dort erstmals die Gewinnung von Reinstsilizium als Ausgangsmaterial für die Produktion elektronischer Bauelemente. Im Oktober 1956 stellte Siemens auf einer Konferenz in Garmisch-Partenkirchen die ersten Silizium-Leistungsgleichrichter mit bislang unerreichten 1000 Volt Sperrspannung und einer maximalen Stromstärke von 200 Ampere vor, die auf einem von Spenke und Mitarbeitern entwickelten Verfahren basierten<ref>{{#if:{{#ifexpr:{{#if:DE|0|1}} or {{#if:1208010|0|1}}|1}}|Fehlender Parameter {{#if:DE||„Land“{{#if:1208010|| und }}}}{{#if:1208010||„V-Nr“}}|}}{{#if: {{#invoke:Expr|TemplateBooland}}|{{#ifeq:|Patentanmeldung|Patentanmeldung|{{#ifeq:|Gebrauchsmuster|Gebrauchsmuster|Patent}}}} {{#if:{{#invoke:TemplUtl|faculty|}}|DE1208010|{{#switch: {{{DB}}} | DEPATIS =DE1208010 | WIPO = DE1208010 | Google = DE1208010 | #default =DE1208010 }}}}{{#if:Flächenhafter Halbleitergleichrichter1955-11-21|:|.}}{{#if:Flächenhafter Halbleitergleichrichter| Flächenhafter Halbleitergleichrichter.}}{{#if:1955-11-21| Angemeldet am {{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:|{{#if:1955-11-21| veröffentlicht am | Veröffentlicht am }}{{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Anmelder: {{{Anmelder}}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Erfinder: {{{Erfinder}}}}}{{#if:| ({{{Kommentar}}})}}{{#if:1955-11-21|.}}}}{{#invoke:TemplatePar|match |template= Vorlage:Patent |cat= {{#ifeq: 0 | 0 | Wikipedia:Vorlagenfehler/Vorlage:Patent}} |format= |preview=@@@ |1=Land= ABC+ |2=V-Nr= /^[0-9A-Z]+$/ |3=Titel= * |4=Erfinder= * |5=Anmelder= * |6=A-Datum= * |7=V-Datum= * |8=Typ= ASCII |9=Code= ASCII |10=Kommentar= * |11=KeinLink= ASCII |12=DB=ASCII }}</ref>. Aus seiner Arbeitsgruppe gibt es eine Reihe von Patenten zur Herstellung hochreiner Halbleitermaterialien<ref>{{#if:{{#ifexpr:{{#if:DE|0|1}} or {{#if:1061593|0|1}}|1}}|Fehlender Parameter {{#if:DE||„Land“{{#if:1061593|| und }}}}{{#if:1061593||„V-Nr“}}|}}{{#if: {{#invoke:Expr|TemplateBooland}}|{{#ifeq:|Patentanmeldung|Patentanmeldung|{{#ifeq:|Gebrauchsmuster|Gebrauchsmuster|Patent}}}} {{#if:{{#invoke:TemplUtl|faculty|}}|DE1061593|{{#switch: {{{DB}}} | DEPATIS =DE1061593 | WIPO = DE1061593 | Google = DE1061593 | #default =DE1061593 }}}}{{#if:Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials für elektrotechnische Zwecke / Method for production of high-purity semiconductor materials for electrical purposes1956-06-25|:|.}}{{#if:Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials für elektrotechnische Zwecke / Method for production of high-purity semiconductor materials for electrical purposes| Vorrichtung zur Gewinnung reinsten Halbleitermaterials für elektrotechnische Zwecke / Method for production of high-purity semiconductor materials for electrical purposes.}}{{#if:1956-06-25| Angemeldet am {{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:|{{#if:1956-06-25| veröffentlicht am | Veröffentlicht am }}{{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Anmelder: {{{Anmelder}}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Erfinder: {{{Erfinder}}}}}{{#if:| ({{{Kommentar}}})}}{{#if:1956-06-25|.}}}}{{#invoke:TemplatePar|match |template= Vorlage:Patent |cat= {{#ifeq: 0 | 0 | Wikipedia:Vorlagenfehler/Vorlage:Patent}} |format= |preview=@@@ |1=Land= ABC+ |2=V-Nr= /^[0-9A-Z]+$/ |3=Titel= * |4=Erfinder= * |5=Anmelder= * |6=A-Datum= * |7=V-Datum= * |8=Typ= ASCII |9=Code= ASCII |10=Kommentar= * |11=KeinLink= ASCII |12=DB=ASCII }}</ref> u. a. auch von Spenke selbst zusammen mit Heinrich Welker<ref>{{#if:{{#ifexpr:{{#if:DE|0|1}} or {{#if:1197058|0|1}}|1}}|Fehlender Parameter {{#if:DE||„Land“{{#if:1197058|| und }}}}{{#if:1197058||„V-Nr“}}|}}{{#if: {{#invoke:Expr|TemplateBooland}}|{{#ifeq:|Patentanmeldung|Patentanmeldung|{{#ifeq:|Gebrauchsmuster|Gebrauchsmuster|Patent}}}} {{#if:{{#invoke:TemplUtl|faculty|}}|DE1197058|{{#switch: {{{DB}}} | DEPATIS =DE1197058 | WIPO = DE1197058 | Google = DE1197058 | #default =DE1197058 }}}}{{#if:Verfahren zur Herstellung einkristalliner flacher Halbleiterkörper / Method of producing crystalline semiconductor material on a dendritic substrate1960-04-02|:|.}}{{#if:Verfahren zur Herstellung einkristalliner flacher Halbleiterkörper / Method of producing crystalline semiconductor material on a dendritic substrate| Verfahren zur Herstellung einkristalliner flacher Halbleiterkörper / Method of producing crystalline semiconductor material on a dendritic substrate.}}{{#if:1960-04-02| Angemeldet am {{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:|{{#if:1960-04-02| veröffentlicht am | Veröffentlicht am }}{{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Anmelder: {{{Anmelder}}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Erfinder: {{{Erfinder}}}}}{{#if:| ({{{Kommentar}}})}}{{#if:1960-04-02|.}}}}{{#invoke:TemplatePar|match |template= Vorlage:Patent |cat= {{#ifeq: 0 | 0 | Wikipedia:Vorlagenfehler/Vorlage:Patent}} |format= |preview=@@@ |1=Land= ABC+ |2=V-Nr= /^[0-9A-Z]+$/ |3=Titel= * |4=Erfinder= * |5=Anmelder= * |6=A-Datum= * |7=V-Datum= * |8=Typ= ASCII |9=Code= ASCII |10=Kommentar= * |11=KeinLink= ASCII |12=DB=ASCII }}</ref>. Eberhard Spenke führte sein Verfahren zur Reinigung und Kristallzüchtung von Silizium bis zur industriellen Reife weiter<ref>{{#if:{{#ifexpr:{{#if:DE|0|1}} or {{#if:1243641|0|1}}|1}}|Fehlender Parameter {{#if:DE||„Land“{{#if:1243641|| und }}}}{{#if:1243641||„V-Nr“}}|}}{{#if: {{#invoke:Expr|TemplateBooland}}|{{#ifeq:|Patentanmeldung|Patentanmeldung|{{#ifeq:|Gebrauchsmuster|Gebrauchsmuster|Patent}}}} {{#if:{{#invoke:TemplUtl|faculty|}}|DE1243641|{{#switch: {{{DB}}} | DEPATIS =DE1243641 | WIPO = DE1243641 | Google = DE1243641 | #default =DE1243641 }}}}{{#if:Verfahren zur Herstellung von Halbleiterstäben durch Ziehen aus der Schmelze1962-12-12|:|.}}{{#if:Verfahren zur Herstellung von Halbleiterstäben durch Ziehen aus der Schmelze| Verfahren zur Herstellung von Halbleiterstäben durch Ziehen aus der Schmelze.}}{{#if:1962-12-12| Angemeldet am {{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:|{{#if:1962-12-12| veröffentlicht am | Veröffentlicht am }}{{#iferror:{{#invoke:Vorlage:FormatDate|Execute}}|}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Anmelder: {{{Anmelder}}}{{#if:|,}}}}{{#if:| Erfinder: {{{Erfinder}}}}}{{#if:| ({{{Kommentar}}})}}{{#if:1962-12-12|.}}}}{{#invoke:TemplatePar|match |template= Vorlage:Patent |cat= {{#ifeq: 0 | 0 | Wikipedia:Vorlagenfehler/Vorlage:Patent}} |format= |preview=@@@ |1=Land= ABC+ |2=V-Nr= /^[0-9A-Z]+$/ |3=Titel= * |4=Erfinder= * |5=Anmelder= * |6=A-Datum= * |7=V-Datum= * |8=Typ= ASCII |9=Code= ASCII |10=Kommentar= * |11=KeinLink= ASCII |12=DB=ASCII }}</ref> (siehe auch Zonenziehverfahren) und gilt so als „Vater der Siliziumhalbleiter“.
Auszeichnungen
- 1958: VDE-Ehrenring<ref>VDE-Ehrenring. Abgerufen am 31. Januar 2018.</ref>
- 1972 Wilhelm Exner-Medaille
Literatur und Quellen
- Ottfried Madelung Schottky-Spenke-Welker: Erinnerungen an die „Gründerjahre“ der Halbleiterphysik in Deutschland nach dem Zweiten Weltkrieg, Physikalische Blätter, Band 55, 1999, Heft 6, S. 54–58
- Die Silizium-Pioniere – 100 Jahre zentrale Forschung bei Siemens, in "Pictures of the Future", 2005, S. 94+95 (PDF; 9,6 MB)
Weblinks
- }} Literatur von und über {{#invoke:WLink|getArticleBase}} im Katalog der {{#ifeq: Eberhard Spenke | Deutsche Nationalbibliothek | DNB | Deutschen Nationalbibliothek}}{{#ifeq: 0 | 0
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- Eintrag über Vorlage:Exner-db/ID in der Datenbank der Wilhelm-Exner-Medaillen-Stiftung.
- Mathis, Wolfgang, "Spenke, Eberhard", in: Neue Deutsche Biographie 24 (2010), S. 666–667
Patente
<references />
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